苏州哈腾科技有限公司  

展位号：H2馆E265

01  快速热压炉

一. 设备原理

快速热压烧结是当今世界上最先进的快速烧结技术之一。通过直接加热模具，区别于传统外部加热，而从工件内部加热。与SPS（放电等离子体烧结）相比，快速热压烧结没有使用昂贵的脉冲电源，因此成本低廉而又兼具烧结速度快，样品致密高的优势。

二. 特点/优势

烧结速度快∶升温速度最高可达1000℃/min，10-20min便可获得高致密度的样品;

设备投资少∶无需昂贵的脉冲电源，性价比高;

烧结过程精准可控∶烧结参数均可精确控制（烧结温度、压制压力、环境气氛等）;

可靠耐用易操作∶高质量液晶触摸屏，程序化操作，一键启动完成实验;

烧结温度低，保温时间短，样品晶粒来不及长大，有利于制备纳米晶材料;

真空∶10-6.67×10-3Pa可选;

压力∶0-500T 可选;

02  高温真空炉

—、产品用途

本设备适用于金属材料（如硬质合金）、无机材料（如陶瓷密封件、碳化硅、氧化错、氮化铝、氮化 硅、氧化铝等）、粉末冶金材料等的烧结，高合金工模具钢、高速钢等的真空淬火、回火、退火等。亦可用干特殊材料的钎焊。

二、产品特点

双层壳体结构，中间通以冷却水，有效降低炉体表面温度，减少高温伤害;

根据不同温度选择钼、钨或者石墨材料作为发热元件，合理化布置，整个炉内加热均句。

容量定制，适合科研院所及工业化生产;

多样化真空系统配置，根据工艺选择不同的真空度;

 可根据实际工艺，增配向炉内通入的氮气、氢气、氧气等的气氛供给系统;

人性化配置，既可以手动操作，也可以实现一键智能操作;

本产品接受非标定制。

03 气相沉积炉

一、产品用途化学气相淀积法已经广泛用于提纯物质、研制新晶体、淀积各种单晶、多晶或玻璃态无机薄膜材料。这些材料可以是氧化物、硫化物、氮化物、碳化物，也可以是III-V、II-IV、IV-VI族中的二元或多元的元素间化合物，而且它们的物理功能可以通过气相掺杂的淀积过程精确控制。

二、原理/特点

在中温或高温下，通过气态的初始化合物之间的气相化学反应而形成固体物质沉积在基体上。

可以在常压或者真空条件下（负压“进行沉积、通常真空沉积膜层质量较好）。

采用等离子和激光辅助技术可以显著地促进化学反应，使沉积可在较低的温度下进行。

涂层的化学成分可以随气相组成的改变而变化，从而获得梯度沉积物或者得到混合镀层。

可以控制涂层的密度和涂层纯度。

绕镀件好。可在复杂形状的基体上以及颗粒材料上镀膜。适合涂覆各种复杂形状的工件。由于它的绕镀性能好，所以可涂覆带有槽、沟、孔，甚至是盲孔的工件。

沉积层通常具有柱状晶体结构，不耐弯曲，但可通过各种技术对化学反应进行气相扰动，以改善其结构。

可以通过各种反应形成多种金属、合金、陶瓷和化合物涂层。

04  实验室电炉

一．主要用途和使用范围

用于高校、科研院所、工矿企业做粉末焙烧、陶瓷烧结、材料处理、石墨烯的生长、气氛还原等

二．供货范围

箱式炉、气氛箱式炉、单温区管式炉、双温区管式炉、多温区管式炉、立式炉、多工位炉、回转炉、升降炉、真空气氛搅拌炉等

三．设备特点；

炉膛采用日本真空吸附成型的优质氧化铝多纤维制成，保温效果好，耐用节能

加热元件采用优质合金丝0Cr27Al7Mo2/优质硅碳棒/优质硅钼棒，材料无杂质，经久耐用。

预留485转换接口，可通过我公司专用软件，与计算机互联，可实现单台或多台电炉的远程控制、实时追踪、历史记录、输出报表等功能。

超温报警并断电，漏电保护，操作安全可靠。

05  非标定制设备

一、技术能力

我公司作为一家高科技技术企业，拥有雄厚的人力与技术基础，目前拥有高级职称2名，博士2名，高工5名。

二、业务范围

从工艺的制定、设备的定制到新材料的试制，我们为您提供新材料开发的流程服务，使您的研究更加高效，且具特色。